
10/10/2025
全球第二大半導體設備商應用材料公司於 2025 年 10 月 7 日發布三款創新製造系統,精準瞄準先進邏輯與記憶體晶片的性能提升需求,特別針對 AI 運算晶片的製造瓶頸提出解方。
首款 Kinex 接合系統由應用材料與荷蘭設備供應商 Besi 聯手開發,為業界首款整合式晶粒對晶圓混合接合系統。該系統採用熱壓接合技術,透過直接銅對銅連接取代傳統焊料,能將多個小晶片整合成高效能系統,性能提升達 20%,同時降低功耗並減少製造成本超過 40%。這項技術特別適用於 GPU 與高效能運算晶片,成為 AI 資料中心晶片製造的關鍵技術。
第二款 Centura Xtera Epi 系統專注於 2 奈米以下節點的無空洞閘極全包圍(GAA)電晶體製造。GAA 電晶體是 2nm 製程的核心技術,相較於前一代 FinFET 架構,GAA 能從四面環繞通道實現更精準的電流控制。Xtera Epi 系統提供更精準的材料沉積能力,有效減少缺陷率並提高電晶體密度,這對台積電、三星、Intel 等晶圓代工廠在 2025 年全面進入 GAA 時代至關重要。
第三款 PROVision 10 電子束量測系統具備次奈米級成像能力,專為複雜 3D 晶片結構檢測設計。隨著晶片架構走向垂直堆疊,傳統檢測工具已難以滿足需求,PROVision 10 能大幅提升製程良率並加速生產流程。這三款系統均整合 AI 輔助優化功能,進一步強化製程效率。
應用材料總裁 Prabu Raja 表示,這些技術將加速從設計到製造的轉型,滿足 AI 資料中心對高效晶片的需求。目前系統已獲台積電與三星採用,預計 2026 年廣泛應用於量產線。
這三款設備的發布時機極為關鍵。當前 AI 晶片製造面臨三大瓶頸,先進封裝產能不足、GAA 電晶體良率挑戰、複雜結構檢測困難,應用材料此舉正是針對這些痛點提出完整解決方案。
隨著台積電 N2 製程與三星 SF2 製程在 2025 下半年進入量產,這些設備的導入將直接影響兩大晶圓代工廠在 2nm 時代的競爭力。對應用材料而言,成功卡位 GAA 與先進封裝兩大關鍵技術,不僅鞏固其在半導體設備市場的地位,更成為 AI 晶片供應鏈中不可或缺的一環。
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